<汇港通讯> 《路透》引述消息人士指,在深圳一座高度戒备的实验室内,中国科学家今年初已造出一台能够生产尖端晶片的光刻机原型机,可生产驱动人工智能(AI)、智能手机和先进武器的晶片。
报道指,这台原型机由荷兰艾司摩尔(ASML)前工程师团队制造,据指他们对ASML的极紫外光刻机(EUV)进了逆向工程,原型机目前正在测试中,并成功产生了极紫外线,但尚未生产出可用的晶片,内地当局目标是在2028年前利用原型机生产出可用的晶片。
报道指,迄今为止,只有ASML掌握EUV技术,其设备对於制造辉达(Nvidia)(NVDA.US) 和AMD(AMD.US) 等公司设计的、以及台积电、英特尔(INTC.US) 和三星等晶片制造商生产的最先进晶片至关重要。 (ST)
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